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真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)鍍膜工作原理

真空蒸發(fā)鍍膜是PVD技術(shù)中發(fā)展zui早、應(yīng)用較為廣泛的鍍膜技術(shù)。盡管后來發(fā)展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍*，但真空蒸發(fā)技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn)，如設(shè)備與工藝相對比較簡單，即可鍍制非常純凈的膜層，又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等，仍然是當(dāng)今非常重要的鍍膜技術(shù)。近年來，由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應(yīng)蒸發(fā)及激光蒸發(fā)等技術(shù)在蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的廣泛應(yīng)用，使這一技術(shù)更趨完善。

將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時(shí)，蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜。

板式換熱器(板式冷卻器)是在兩兩相鄰的傳熱板片所形成的狹窄而曲折的通道中流過，冷、熱介質(zhì)依次通過各自流道，中間隔一層傳熱板片，冷、熱介質(zhì)的傳熱過程實(shí)際上就是熱介質(zhì)的熱能傳遞給冷介質(zhì)的過程。在此過程中溫度較高的介質(zhì)通過傳熱板片將熱能傳遞給溫度較低的介質(zhì)，熱介質(zhì)被冷卻，冷介質(zhì)被加熱，通過熱能轉(zhuǎn)移來實(shí)現(xiàn)熱工工藝的要求。